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中国光刻机前沿信息_2024中国光刻机新进展(2024年12月实时热点)

内容来源：材料耗材资讯网所属栏目：教程更新日期：2024-11-30

中国光刻机

终极预测中国光刻机发展的五个阶段：第一阶段：光刻机是世界工业皇冠上的明珠，给中国100年也造不出来，我们必须卡他们脖子；第二阶段：经过努力中国终于造出国产光刻机，然后说法为之一变，中国造出来的光刻机比国外差几十年，粗枝烂叶，性能差不良率高，没有什么商业价值；第三阶段：中国的光刻机虽然有所改进，但是和世界上最先进的光刻机比，重要参数仍旧落后，使用领域严格受限；第四阶段：经过改进后，中国光刻机全面领先，然后说法又变，中国光刻机虽然全面突破，各项性能指标遥遥领先，但是你们是举国体制，没什么大不了的！再说花费那么多钱，浪费那么多研发，为何不把这些钱投资在民生上呢？第五阶段：中国通过技术创新，成了光刻机第一强国，无论是性能还是产能都遥遥领先全世界，而且把西方国家得光刻机打成了白菜价，说法又为之一变，中国人把光刻机变成了白菜价，这是标准的产能过剩，应该予以抨击！以上是我对中国光刻机发展五个阶段的预测，目前我们处在第二阶段，我相信按照这个速度，中国的光刻机发展必将朝着第五个阶段发展。想一下当年的德国盾构机和高铁，事物的发展规律都是一样的，光刻机距离白菜价也不会太久。 #我要上热门#

为什么全世界只有中国在研究光刻机？其实背后的原因很简单：因为半导体国外都是分工合作，美国的设计，荷兰的设备，韩国，弯弯的生产工艺，其中又有德国，丹麦，日本，法国提供各自领域的技术，现在所有国家都对我们封锁，你指望我们一个发展中国家短时间全部突破吗？不过我还是对国产芯片有信心，毕竟封锁就意味着市场空白，满腔热血无法突破的东西，利润可以做到。这玩意不只是光刻机，是围绕芯片产业和计算机信息技术一套下来的，从硬件到软件，是全球工业水平的极限了。但是电子计算机的上限早就被量子力学限制的死死的。于是有一批科学家已经在寻找新的突破口了，说不定可以放弃光刻机，直接进入一条新的赛道，这条赛道谁先进入就意味着再无敌手。在此基础上AI神经算法也是一种算法上的突破。人家不是不研发，人家是集合整个西方世界所有的科技力量联合研发的。你以为单靠荷兰一个小小的公司就能搞出光刻机吗？这是整个西方先进科技的结晶，光学镜头，电机，激光头就是来自不同国家，荷兰ASML公司只是做了最后的整合。但这些东西人家是不卖给我们的，我们需要每一个部件都去自主研发，要耗费的时间和金钱是天文数字。我们是在以一国之力对抗人家整个西方。俄罗斯在摆烂，西方阵营国家不用研发，剩下的国家他们用不上。其实芯片行业我们还有非常多技术要突破不只是光刻机一项，但是有些事总是要做的，而且芯片制造都是高附加值行业有了这些技术工人待遇才有改善条件，加工一辈子衬衫是不可能比得上人家发达国家的生活水平的。

近年来，中国在半导体领域的发展迅速，尤其在DUV光刻机领域的技术突破，引起了国际社会的广泛关注。在众多讨论中，一则美国网友发出的“没有得到美国的允许，为何中国敢私自研发DUV光刻板”的留言，一定程度上折射出美国对中国光刻机领域的发展并不支持。那么，在美国对中国实施技术封锁和出口管制的大背景下，中国为何能够在没有美国允许的情况下，独立研发出DUV光刻机？这背后不仅是技术积累的成果，更反映了中国在高端制造业崛起的决心。光刻机介绍光刻机（Photolithography Machine），作为制造半导体芯片的关键设备，其作用原理有点类似于我们生活中接触到的摄像，把拍到的照片事物印在底片上，即利用光线把光罩上的图案复刻在光刻板上，形成电路图案。关于光刻机的精度，它直接决定了芯片的制程节点（即芯片的微小尺寸）。因此，光刻机也被誉为半导体产业的“皇冠上的明珠”。光刻机的出现可以追溯到上世纪四十年代，目前主要根据所使用的光源波长进行分类，最常见的是深紫外线DUV（Deep Ultraviolet Lithography）和极深紫外线EUV（Extreme Ultraviolet Lithography），前者广泛应用于28纳米至7纳米的芯片制造，而后者主要用于制造7纳米及以下工艺节点的芯片，全球主要的光刻机制造商是荷兰的ASML，它几乎垄断了EUV光刻机的市场。而DUV光刻机市场则由ASML、尼康（Nikon）和佳能（Canon）等公司占着大部分份额。由于技术壁垒极高，研发难度大和成本高，拥有光刻机的研发和生产工艺会被认为是一个国家具有最先进制造业的代表象征之一。中国光刻机的发展与挑战中国的光刻机研发并非一蹴而就，而是经过了多年的技术积累。首先，中国的半导体产业起步较晚，后来尽管中国在芯片设计和制造的其他方面取得了不少成就，在光刻机领域却发展十分缓慢。随着国家对半导体产业的战略重视，光刻机的研发也逐渐被纳入了国家级科技攻关重点，由此光刻机得到迅速发展。在上世纪七十年代，中国成功研制出了国内第一台光刻机，并且后面几十年内一直不断在寻求突破，研究方面积累了相当的经验成果。以2018年中国科学院光电技术研究所研制的“超分辨光刻装备”通过验收为例，在当时就颇受关注，可见中国光刻机领域的发展实力不可小觑。与此同时，我们要知道当时美国长期以来对中国的技术进步保持警惕态度，尤其是在半导体和高科技领域。在光刻机技术上，美国曾通过控制关键技术、出口管制等手段限制中国的技术发展。2018年，美国政府更是将ASML等公司列入实体清单，禁止它们向中国提供EUV光刻机。这一措施虽然短期内对中国光刻机研发产生了影响，但也催生了中国自主创新的动力。中国政府积极推动自主研发，提供政策支持，并加大科研资金的投入。通过产学研结合，鼓励企业和科研机构合作，逐步克服了设备技术的瓶颈。除了光刻机技术外，中国还加快了半导体材料、光刻胶等领域的研发，力求突破关键环节。目前，国内的DUV光刻机领域发展整体呈上升趋势，主要研发力量有中科院微电子研究所、上海微电子装备（集团）公司（SMEE）等单位。其中，SMEE是中国目前唯一能够生产DUV光刻机的企业。 SMEE在自主研发中，克服了光刻机核心部件的制造难题，逐步提升了设备的性能和产量。根据最新消息显示，我国又新推出了两台国产KrF、ArF光刻机，这无疑是海外出口被管制背景下中国取得的可喜成果，意义十分重大。中国敢“私自”研发DUV光刻机的原因中国敢于在没有得到美国允许的情况下研发DUV光刻机，是建立在多年的技术积累和自主创新的决心的基础之上而做出的举动。中国通过加强高技术人才的培养、研发投入的增加以及政策的支持，一定程度上逐步提升了自己的技术研发能力。尽管面临国际封锁和技术壁垒，但中国的半导体产业仍然坚定地走上了自主创新之路。中国将半导体产业作为国家战略的重要组成部分，尤其在光刻机技术，已经将其列为“卡脖子”技术，重点突破。政府还通过出台相关产业发展的支持政策，鼓励相关企业在光刻机研发方面取得进展。政策的支持和国家战略的引导，使得中国敢于在全球竞争的背景下推动自主研发。尽管美国和其盟国对中国的科技崛起保持警惕，但也有一些国家和地区愿意与中国进行合作，尤其是在光刻机技术的非核心领域。荷兰ASML虽然受到美国压力，但在DUV光刻机方面仍然有一些合作空间，这使得中国能够通过合作、引进和自主研发相结合的方式，逐步缩短与国际先进水平的差距。 #我要上热门#

台积电的创始人张忠谋最近发表了一番言论，讽刺中国的芯片制造能力：“有钱就能造芯片？中国14亿人口，连一个小小的芯片都造不出来，难道天才还躲在娘胎里吗？”美国的媒体也趁机嘲讽，指出在美国硅谷，有超过20000名来自中国顶尖大学的人才正在为美国的科技公司工作，暗示中国培养的人才最终都在为美国服务。这一番言论不仅刺痛人心，也引发了对国内芯片产业现状的深思：这样的评价是否公正？难道我们的芯片产业真的是无可救药的弱者吗？张忠谋的这番话，尽管表面上听起来刺耳，但实际上既有现实的一面，也有些许夸张。作为全球芯片代工的领导者，张忠谋对芯片行业的发言无疑是权威的，但他的言论更像是“戳痛点”，而不是无可辩驳的事实。目前，全球最先进的制程工艺已经达到3纳米，台积电和三星在这方面遥遥领先，而中国的主流芯片制程还停留在14纳米，7纳米刚刚有所突破。这种差距就像是在“自行车追赶飞机”。然而，芯片制造不仅仅是对工艺制程的追求，它更是一场需要各个环节协同作战的系统工程。从芯片设计到制造过程中所需的光刻机和化学材料，再到最后的封装测试，每个环节都需要顶尖技术的支持。在这些环节中，我们最依赖于国外的设备和技术。以光刻机为例，这一被誉为“芯片制造业皇冠上的明珠”的关键设备，目前只有荷兰的ASML公司能够生产最先进的EUV光刻机，而且由于技术封锁和政治原因，中国无法购买到这种设备。因此，即使有钱，中国也无法立即掌握最先进的芯片制造技术。张忠谋还提到中国缺乏芯片领域的“天才”，这听起来让人感到愤怒。但冷静思考后，这确实反映了中国芯片行业的一个现实：芯片制造是一个典型的“技术密集型”产业，需要长时间的科研积累和大量顶尖人才的支持。过去几十年，由于发展重心不同，中国在芯片领域起步较晚，积累较少，这导致了行业初期人才储备不足。而在国外，早已培养了成千上万的芯片专家。更令人遗憾的是，许多我们培养出的顶尖人才最终选择为国外的科技公司工作。然而，情况正在逐渐改变。越来越多的海外科学家开始回国效力，如被称为“中国光刻机之父”的尹志尧，他回国后创立了中微半导体，为中国芯片制造设备的突破做出了巨大贡献。此外，华为等企业在芯片设计领域也进入了全球一流水平。可以说，张忠谋所说的“天才”我们并非没有，只是正在逐步吸引他们回国。近年来，国家也开始重视芯片领域的人才培养，特别是在物理和化学基础教育方面。杨振宁教授曾提到，美国的孩子从小就开始接触物理和化学，而中国的学生通常要到初中才开始学习这些基础科学知识。这种差距导致了中国在科技发展上的困境。值得庆幸的是，国家已经意识到这个问题，并在教育层面进行了改革。例如，央视《第一时间》节目中提到，培养孩子的理科思维非常重要，并推荐了一套特别适合孩子的启蒙教育书籍《这就是物理》。这本书目前也被清华附小列为“课外必读书目”。《这就是物理》上市以来，销量已达到680万册，并获得了多项科技奖项。这套书将复杂的物理原理以漫画形式呈现，内容直观有趣，涵盖了国内中小学85%以上的物理考试知识点，帮助孩子们轻松理解物理知识，激发他们的学习兴趣。对于有兴趣的家长，可以点击下方商品链接购买这套书，仅需一杯咖啡钱，就能为孩子提供一个科学启蒙的机会。

#上热门首台光刻复合体交付，荷兰美国急眼 #中国光刻机

美荷批评中国光刻机技术？这误会可大了去了

日本悄悄地向中国大量出口光刻机今年数量暴增！没把美国的警告当回事? 根据日本财务省公布数据，8月日本对华半导体设备出口额同比激增61.6%，达到1799亿日元（约合人民币88.2亿元）。这显示，尽管美国想极力联合荷兰、日本等盟友联合封杀中国半导体设备，但是日本却很难做到。首先，日本大量向中国出售光刻机已经持续了一年，日本经济新闻的消息，今年第一季度，日本对中国出口额暴增同比82%。当时，日本已经连续第三个季度将超过50%的半导体制造设备出口至中国。而今年8月份，日本向中国大陆出口的设备总重量为6742吨，比上月增长了41%，机械设备占日本对华出口总额的24.8%，其中半导体制造设备占11.9%。其次，日本向中国出售光刻机真的有点”悄悄地“、”偷偷地“，因为没法说。去年7月，日本开始实施尖端半导体制造设备出口管制措施，日本企业需要获得日本贸易省批准，才能将尖端半导体（如14纳米及以下逻辑芯片）的制造设备运往友好国家以外的目的地。但日本光刻机都是28纳米以上的成熟制式，不在美国和日本当局的限制范围内，可以自由向中国出售。即便如此，日本企业也不敢说，只想闷声发大财，以避免美国修改政策予以干涉。日本想乘荷兰光刻机巨头ASML被美国”捆住“手脚之际抓紧占领中国光刻机市场。日本的尼康、佳能曾在上各个世纪八九十年代的全球光刻机市场上居于领先地位，但被美国一直打压，以至于荷兰ASML公司后来居上。但日本认为中国光刻机市场仍在扩大，有利可图。日本《日经亚洲评论》的文章指出，中国大陆今年上半年在芯片制造工具方面的支出达到创纪录的250亿美元，超过了美国、韩国和中国宝岛地区的总和，预计全年总支出将达到500亿美元。在全球经济放缓的情况下，中国大陆是唯一一个芯片制造设备支出同比继续增加的地区。所以，日本贸易数据显示，在截至今年3月份的第一季度，中国市场占其半导体制造设备、设备零部件以及平板显示器设备出口量的一半，之后也保持了这个势头。估计，这让荷兰ASML公司会很生气，因为荷兰ASML技术先进的EUV光刻机和高端DUV光刻机被美国拦着，死活不允许向中国出口，可是日本光刻机的技术较为落后，却可以大量对中国出口。但这也反映了中国国产的光刻机性能连日本的都远远不如。

中国光刻机领域的四家优秀企业。 1. 上海电气icon。上海电气是全球领先的工业级绿色智能系统解决方案提供商，有着深厚的工业制造基础和强大的技术研发能力。在光刻机领域，其母公司是上海微电子的第一大股东，这使其在光刻机产业中具有重要地位，为推动国内光刻机技术的发展提供了有力的支持和资源。上海电气的产业布局广泛，在智能能源、智能制造、数智集成等领域都有出色的表现，这些业务的技术积累和产业协同效应也为其在光刻机领域的发展提供了优势。2024 年第二季度研发费用总额高达 23.27 亿，总市值达 1519 亿。 2. 东方嘉盛icon。是国内唯一掌握光刻机维修服务技术的公司，在光刻机国产替代战略中扮演着重要的角色。公司拥有南方唯一的光刻机寄售、维修保税仓库，这为其在光刻机产业链中提供了独特的服务优势和业务切入点。在供应链服务领域的多年深耕也使其具备了为光刻机产业提供相关供应链服务和技术支持的能力。2024 年第三季度季报显示，公司营业总收入 10.14 亿元，净利润 3737.32 万元，市值为 68.76 亿元。 3. 海立股份icon。在光刻机行业龙头之一，2024 年第三季度营业总收入同比增长，海立股份均不足 10%，但在光刻机相关零部件或技术方面可能具有一定的优势和发展潜力，这使其在光刻机产业中也有一定的影响力。2024 年上半年实现营业收入 109.81 亿元，是中科院国内高端光学领域的龙头企业，也是光刻机核心部件供应商。 4. 奥普光电icon。作为国防光电测控设备龙头，其下属的长春光机所icon是国内光刻机技术研发的重要力量。奥普光电与长春光机所的紧密联系使其在光刻机产业中具有技术优势和发展潜力，公司不断加大新技术研发力度，在光电传感和激光测量等领域取得了显著成果，这为其在光刻机核心部件的研发和生产上提供了技术支持。光学领域的龙头企业，也是光刻机核心部件供应商。作为国防光电测控设备龙头，其下属的长春光机所是国内光刻机技术研发的重要力量。「财经观察官」

iFixit和TechInsights发现，麒麟9010芯片与9000S相似，均在SMIC的7nm节点（N+2）生产，共享相同型号但9010设计改进或提高产量及性能。 9000S曾引西方恐慌，关于中国技术进步不受制裁影响。9010仍7nm，显示中国芯片制造放缓。但华为和SMIC有望近年达N5节点，已掌握Fin FET和N+工艺，需解决产量。与台积电骁龙8 Gen 3比，中国半导体制造有差距。9010性能远逊于台积电N4P的8 Gen3，后者基于更先进的N5节点。 9000S至9010性能提升有限。美限制中国7nm及N5节点高产量生产，但中国3D NAND技术领先。挑战在于无法访问最新节点流程，EUV光刻机由ASML独家制造，中国制造商需应对旧技术挑战，同时研发自家EUV和DUV系统。预计中国将跃升至5纳米工艺，但良率或低。

中国不买光刻机了，三大巨头傻眼，后悔都来不及！

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